Od 200 lat naukowcy próbują rozwiązać zagadkę tajemniczych plam na rzeźbach z Partenonu
19 stycznia 2024, 16:31W 1688 roku z Aten do Kopenhagi dotarły dwa fragmenty rzeźb, głowa mężczyzny z brodą oraz głowa młodzieńca. Był to prezent dla króla Danii Chrystiana V. Opisano je jako pochodzące z jednego z siedmiu cudów świata, świątyni Artemidy w Efezie. Około 140 lat później dwóch naukowców, którzy odwiedzili królewską kunstkamerę, stwierdziło, że pochodzą one z Partenonu. W 1830 roku, na rzeźbach z Partenonu przechowywanych w British Museum, zauważono brązowe plamy. Okazało się, że występują też na rzeźbach z Kopenhagi. Duńczycy poinformowali właśnie o wynikach badań przeprowadzonych za pomocą najnowocześniejszych technik.
Europejskie konsorcjum EuPRAXIA chce zbudować praktyczny akcelerator plazmowy
28 grudnia 2019, 12:20Europejscy fizycy opracowali plan budowy nowego akceleratora cząstek wykorzystującego wzbudzone pole plazmowe. European Projekt Plasma Research Accelerator with eXcellence In Applications (EuPRAXIA) przewiduje budowę w jednym lub dwóch miejscach w Europie infrastruktury do pracy z plazmą o wysokich energiach
TSMC światowym liderem we wdrażaniu EUV
16 października 2019, 15:13Przed tygodniem TSMC ogłosiło, że wykorzystywana przezeń technologia 7nm plus (N7+) jest pierwszym komercyjnie dostępnym wdrożeniem technologii EUV (litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie). Tym samym tajwański gigant ustawił się w roli światowego lidera EUV. I wielu analityków to potwierdza.
Problemy z EUV rozwiązane, za kilka lat powstaną 2-nanometrowe kości?
11 lipca 2019, 09:02AMD zaprezentowało niedawno 7-nanometrowe procesory z rodziny Ryzen 3, a Samsung może w ciągu najbliższych miesięcy rozpocząć produkcję kości w technologii 5-nanometrów. Stało się to możliwe dzięki temu, że w końcu poradzono sobie z problemami trapiącymi litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV).
Ratowanie dokumentów uszkodzonych przez wody powodziowe za pomocą wiązki elektronowej
5 września 2017, 12:27Zalane przez wody powodziowe huraganu Hurvey dokumenty, książki itp. można uratować za pomocą technologii wiązek elektronowych.
Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV
14 lipca 2017, 13:21Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV
EUV coraz bliżej
4 marca 2016, 07:22W końcu jasna przyszłość rysuje się przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Producenci układów scalonych z niecierpliwością czekają na tę technologię, gdyż pozwala ona na naświetlenie plastra krzemowego w jednym przebiegu
Prawo Moore'a przetrwa CMOS
3 lutego 2016, 09:59Prawo Moore'a przeżyje technologię CMOS i będzie obowiązywało w odniesieniu do przyszłych technik wytwarzania układów scalonych, uważa Wiliam Holt z Intela. Holt, odpowiedzialny w Intelu za wydział technologii i produkcji, nie zdradził, którą z technologii mających zastąpić CMOS wdroży jego firma
EUV zadebiutuje w 2018 roku?
25 stycznia 2016, 15:30Wszystko wskazuje na to, że litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będzie gotowa na czas, by wykorzystać tę technologię do produkcji układów scalonych w procesie 7 nanometrów.
Ruszyły prace nad 5 nanometrami
21 grudnia 2015, 10:16Koncern TSNM rozpoczął prace nad 5-nanometrowym procesem technologicznym. Jednocześnie firma wciąż nie zdecydowała, czy będzie używała litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV)
